Wie nennt man das Einbringen von Fremdatomen in Silizium?
Das Einbringen von Fremdatomen in Silizium heißt Dotierung. Dabei werden winzige Mengen anderer Elemente wie Phosphor oder Bor in reines Silizium eingebracht, um seine elektrischen Eigenschaften zu verändern.
Durch die Dotierung leitet Silizium Strom deutlich besser. Ohne diesen Schritt würden Transistoren und andere Halbleiterbauteile längst nicht so gut funktionieren. Erst diese Technik macht Computer und Smartphones möglich.
Bor erzeugt sogenanntes p-dotiertes Silizium, weil ihm Elektronen fehlen. Phosphor erzeugt n-dotiertes Silizium, weil es Elektronen übrig hat. Treffen ein p-Gebiet und ein n-Gebiet auf kleinstem Raum aufeinander, entsteht ein p-n-Übergang. Er lässt Strom in eine Richtung durch und sperrt ihn in der anderen. So funktioniert zum Beispiel eine gewöhnliche Diode.
Die Mengen sind dabei winzig. Auf viele Millionen Siliziumatome kommt oft nur ein einziges Fremdatom, und trotzdem verändert das die Leitfähigkeit enorm.
Die Dotierung ist die Grundlage fast der gesamten modernen Elektronik. Ohne diesen Trick hätten wir riesige, langsame Schaltkreise und wären weit entfernt von der schnellen Technik von heute.